第403章 让你热馒头，你跟锅盖分析受热变形？

顾晴挠了挠头髮，乾笑了一声，赶紧打圆场。

“懂了懂了。刚才就是嘴碎，话顺著嘴边禿嚕出来了。”

顾昭昭把那份年报重新推回她眼皮底下。

“你能懂，说明你比大部分人都聪明。好奇是人类的正常生理反应，但科研保密，从来不按血缘亲情来分配权限。”

顾晴被噎得翻了个白眼。

“你这话听著是真硬邦邦的，但我居然觉得该死的有道理！”

顾昭昭重新捏起铅笔，一秒切回学霸辅导模式。

“接著看你的参数表吧。这个没出公开范围，隨便讲。”

顾晴那点小尷尬瞬间被这句话给扫空了，立马坐得溜直。

“讲讲讲！今天高低得把你脑子里的墨水多榨点出来。”

顾昭昭在白纸上刷刷列出蒸镀功率、沉积速率、基板温度三列数据，又补了个膜厚均匀性。

“你这组数据最大的坑，就是把功率和生长速率当成简单的线性关係来算了。”

顾晴眉头拧成了一个疙瘩。

“不是功率给得越大，长得就越快吗？”

“在低功率区你可以这么凑合算，但越过一定閾值后，基板表面的迁移过程就成了拖后腿的限制因素。这时候你功率还不管不顾地往上猛加，速率不但不会按比例涨，反而会让表面粗糙度直接飆升。”

顾昭昭拿过木尺压住纸边，行云流水般画出一条精准的对数擬合曲线。

“看这儿。八十瓦到一百二十瓦之间，长势確实喜人。但一过一百二十瓦，曲线就开始平了。到了一百五十瓦附近，膜层质量已经明显往下掉了。你们现在光顾著追求出膜快，把工艺窗口全推过头了。”

顾晴盯著那条堪称完美的曲线，嘴巴慢慢张成了“o”型。

“所以，最佳功率压根就不是最大功率，而是在一百一到一百二之间？”

“对。再配上一百八十五到一百九十五度的基板温度，真空度稳住，膜厚均匀性绝对能有个质的飞跃。”

顾昭昭在旁边利索地写下两行字。

【推荐工艺窗口：p=110—120w，t=185—195c，需强制加入温控反馈。】

顾晴盯著那张纸，眼珠子都不捨得错一下。

“乖乖……我开学要是把这张纸拍到梁院长桌上，他能激动得当场把实验室那台破温控仪给砸了重焊！”

“別说是我定的。”顾昭昭严谨地提醒她，“你就说是根据现有的残缺数据，做出的擬合推断。以梁院长的水平，他看得懂这里的逻辑。”

顾晴立马像供著宝贝似的把纸叠好，小心翼翼地夹进笔记本最中间。

“懂，绝对不给你惹麻烦！不过我要是大言不惭地吹牛说这是我想出来的，估计梁院长也不信啊。”

顾昭昭顺手翻开了她的实验笔记。

“我再看看別的。”

顾晴立马坐不住了，连连摆手求饶。

“哎哟我的小祖宗，你手下留情轻点批！我这本笔记已经被你批过两回了，每回都跟上台念检討似的。”

“实验笔记不是让你写日记，它的存在目的，就是为了暴露问题。”

顾昭昭铁面无私地逐页翻查。

顾晴在旁边抓起一颗大白兔奶糖，剥了皮塞进嘴里压压惊。糖还没嚼两口呢，顾昭昭的铅笔已经冷酷无情地戳在了一页纸上。

“第一处，晶格常数换算错了。埃和厘米之间，你差了一个数量级。”

顾晴小脸一垮。

“又在单位上栽跟头了？”